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    電子裝備產業

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    依托半導體高端設備研制,通過半導體高端設備、真空技術兩個板塊,建立電子裝備的產業化經營格局
    •  VTM單晶爐

    VTM單晶爐

    主要應用于碲鋅鎘、碲化鎘、銻化銦等多種化合物半導體材料的單晶生長

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    VTM單晶爐是依據我公司自主研發的VTM工藝方法所設計的新型單晶工藝設備, 設備由加熱系統、運動系統支撐機構、電控系統四部分組成,適用碲鋅鎘、碲化鎘、銻化鎵等多種化合物半導材料的單晶生長。


    VTM單晶爐設備特點

    ■  晶體生長界面引入磁力控制,穩定晶體生長方向,提高了單晶成品率;

    ■  整機的機械運動及加熱系統采用PC控制,菜單數據可輸入,歷史數據可查詢,具有聲、光報警,生產重復性高;

    ■  加熱系統分主加熱裝置和輔助加熱裝置。主加熱控制整體溫度。輔助加熱可移動。實現局部加熱的高精度,加強了溫場的可控性;

    ■  運動系統采用一鍵式控制。既滿足裝爐時的快速升降,又可以精確控制晶體生長時爐體的緩慢行程速度,大大提高生產效率;

    ■  支撐機構采用分體式設計,保障穩定性同時有效阻隔了震動,提高單晶生長的質量及成品率;

    ■  采用剛性傳動機構,傳動效率高,穩定性強。


    技術參數

    適用爐體范圍2~6英寸
    爐體結構立式單管狀
    控制方式微控
    爐體極限工作溫度1350℃
    溫度顯示精度0.1℃
    溫度控制精度優于±0.2
    爐體動作模式立式升降/左右旋轉
    爐體升降行程L有效=620mm