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    真空電阻蒸發濺射鍍膜設備中的技術

    發布時間:2021-6-24 15:06:04      點擊次數:170

    電阻蒸發鍍膜機(Resistance Evaporation Coater),利用膜材加熱裝置,讓膜材原子進行熱運動逸出膜材表面,在真空環境下,沉積到樣品表面,如果加入帶有動能離子的話,射擊靶材,將靶材原子“碰撞”出來,產生離子濺射效應。濺射出來的離子會沉積到樣品表面,形成密度更大的靶材相關的薄膜,這是真空電阻蒸發濺射鍍膜設備中的鍍膜技術。

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    磁控濺射鍍膜機(Magnetron Sputtering Coater),由真空專用不銹鋼腔室、三只3英寸圓形平面磁控靶;直流、射頻濺射電源三臺。機械泵+分子泵高真空系統、旋轉、加熱基片臺(室溫至300±1℃可調可控)、機架、氣路、水路、邏輯按鈕控制及安全保護等組成。該設備選配電源可具備三靶共濺射功能,實現一機多用,可開發納米級單層或多層的導電膜、半導體膜、絕緣膜等。整機結構緊湊、占地小、操作方便、抽真空速度快。


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