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    Cleaning Equipment 半導體清洗設備之GASS立式雙腔甩干機

    發布時間:2021-7-1 15:08:08      點擊次數:175

    SEMITOOL產品中的SRD旋轉沖洗甩干機是根據國際、國內半導體產業的發展和市場需求,研究開發的旋轉沖洗甩干設備。該機型具有高潔凈度旋轉沖洗甩干功能。本系列機型可以適應從φ25mm到φ200mm直徑(包括方形和其它特殊形狀)片式材料的旋轉沖洗甩干工藝。可用于半導體晶片、砷化鎵材料、掩膜版、太陽能電池基片、藍寶石、鈮酸鋰、光學鏡片、磁盤、光盤、醫用玻璃基片等類似材料的高潔凈度沖洗甩干。是半導體濕法清洗工藝中必不可少的主流設備之一。

    SEMITOOL GASS旋轉清洗干燥機

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    描述:

    SEMITOOL GASS旋轉清洗干燥機采用去離子水沖洗和加熱的氮氣干燥全自動晶片襯底后的濕化學方法。有兩個雙層干衣機和潔凈室中一堆烘干機。該系統使用一個可編程的方法來自動處理晶圓。

    規格/性能:

    一種電阻率探針可監測浴中的化學濃度,以確保完全去除化學品。

    無點式干燥氮氣加熱器。

    可編程的食譜包括漂洗,質量沖洗,清洗,和干燥周期。

    支持樣本量:

    大晶片直徑:200毫米(8英寸)

    晶圓直徑:75毫米(3英寸),100毫米(4英寸),150毫米(6英寸),和200毫米(8英寸)。

    掩模尺寸:125毫米(5英寸),150毫米(6英寸)。

    支持的小片段:沒有。

    應用:

    晶圓和掩模清洗和干燥。


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